ASML, o se ta'ita'i fa'alelalolagi i faiga fa'ata'ita'i fa'akomepiuta, ua fa'ailoa talu ai nei le fa'atupuina o se fa'atekonolosi fa'ata'ita'i fou o le ultraviolet (EUV). O lenei tekonolosi e faʻamoemoe e faʻaleleia atili le saʻo o le gaosiga o le semiconductor, e mafai ai ona gaosia meataalo ma foliga laiti ma maualuga le faʻatinoga.
Ole faiga fou ole lithography EUV e mafai ona ausia se iugafono e oʻo atu ile 1.5 nanometers, o se faʻaleleia tele i luga o le gaosiga o loʻo iai nei o meafaigaluega lithography. O lenei fa'asilisili sa'o o le a i ai se aafiaga loloto i mea fa'apipi'i semiconductor. A'o fa'aitiitia tupe meataalo ma sili atu ona lavelave, o le a fa'atupula'ia le mana'oga mo lipine fa'amau, lipine ufiufi, ma ta'avale e fa'amautinoa ai le saogalemu o felauaiga ma le teuina o nei vaega laiti.
O loʻo tuuto atu la matou kamupani e mulimulitaʻia nei tulaga faʻatekonolosi i totonu o pisinisi semiconductor. O le a fa'aauau pea le fa'afaigaluegaina o tupe i su'esu'ega ma atina'e e atia'e ai mea fa'apipi'i e mafai ona fa'amalieina mana'oga fou na aumai e le ASML's new lithography technology, ma maua ai le lagolago fa'atuatuaina mo le gaosiga o le semiconductor process.
Taimi meli: Feb-17-2025