Ua faʻalauiloa talu ai nei e le ASML, o se taʻitaʻi i le lalolagi atoa i faiga faʻa-semiconductor lithography, le atinaʻeina o se tekinolosi fou o le extreme ultraviolet (EUV) lithography. O lenei tekinolosi ua faʻamoemoeina o le a faʻaleleia atili ai le saʻo o le gaosiga o semiconductor, ma mafai ai ona gaosia ni chips e laiti foliga ma maualuga le faʻatinoga.
E mafai e le faiga fou o le EUV lithography ona ausia se iugafono e oo atu i le 1.5 nanometers, o se faaleleiga tele pe a faatusatusa i le tupulaga o meafaigaluega lithography o loo i ai nei. O lenei sa'o ua faaleleia atili o le a i ai se aafiaga tele i mea e afifi ai semiconductor. A o faasolo ina laiti ma faigata chips, o le manaoga mo lipine feaveai e maualuga le sa'o, lipine ufiufi, ma uili e faamautinoa ai le saogalemu o felauaiga ma le teuina o nei vaega laiti o le a faateleina.
Ua tautino atu la matou kamupani e mulimulitaʻi totoʻa i nei alualu i luma faʻatekonolosi i le alamanuia o semiconductor. O le a matou faʻaauau pea ona faʻafaigaluega i suʻesuʻega ma atinaʻe e atiina ae ai mea e afifi ai e mafai ona ausia manaʻoga fou e aumaia e le tekinolosi fou o le lithography a le ASML, ma maua ai le lagolago faʻatuatuaina mo le faagasologa o le gaosiga o semiconductor.
Taimi na lafoina ai: Fepuari-17-2025